光刻机是干什么用的
光刻机就是用光来雕刻的机器,是用来实现光线侵蚀光刻胶的目的。所以说,光刻机就是把很大的电路图,通过透镜缩小到芯片那么大,然后用光线侵蚀掉光刻胶,达到自动形成电路的目的。光刻机是非常复杂的机械,目前最厉害的光刻机生产商就是荷兰的ASML,他们现在已经能够生产刻出5nm线路的光刻机了。光刻机的分类光刻机一般根据操作的简便性分为三种,手动、半自动、全自动。手动:指的是对准的调节方式,是通过手调旋钮改变它的X轴,Y轴和thita角度来完成对准,对准精度不高。半自动:指的是对准可以通过电动轴根据CCD的进行定位调谐。自动:指的是从基板的上载下载,曝光时长和循环都是通过程序控制,自动光刻机主要是满足工厂对于处理量的需要。
光刻机是干什么用的
1、光刻机是芯片制造的核心设备之一,按照用途可以分为好几种:有用于生产芯片的光刻机;有用于封装的光刻机;还有用于LED制造领域的投影光刻机。 2、用于生产芯片的光刻机是中国在半导体设备制造上最大的短板,国内晶圆厂所需的高端光刻机目前完全依赖进口。 3、光刻机(Mask Aligner) 又名:掩模对准曝光机,曝光系统,光刻系统等。常用的光刻机是掩膜对准光刻,所以叫 Mask Alignment System.一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、刻蚀等工序。Photolithography(光刻) 意思是用光来制作一个图形(工艺);在硅片表面匀胶,然后将掩模版上的图形转移光刻胶上的过程将器件或电路结构临时“复制”到硅片上的过程。
中国光刻机哪家好
光刻机国产排名第一的是上海微电子。目前全球只有四家能够制造光刻机的公司,分别是荷兰阿斯麦尔、日本尼康和佳能、中国上海微电子。这里说的光刻机指的是euv/duv浸润式光刻机。所以说,国内仅有一家能够制造光刻机的公司,既上海微电子,所以上海微电子排名第一。上海微电子公司简介:上海微电子是半导体行业的上市公司,公司坐落于张江高科技园区。公司成立于2002年,主要致力于大规模工业生产的投影光刻机研发,生产销售与服务,IC制造与先进封装,MEMS ,TSV/3D,TFT -OLED等制造领域。公司致力于以极致服务,造高端产品,创卓越价值,全天候,全方位,全身心地为顾客提供优质产品和技术支持与服务。
中国光刻机现在多少纳米
摘要:光刻机是制造芯片的关键设备,是世界上最复杂的精密设备之一,也是工时和成本占比最高的设备,更是全球顶尖技术和人类智慧的结晶,目前世界上只有3个国家有能力制造出光刻机,我国就是其中一个。那么,中国光刻机现在多少纳米?中国高端光刻机什么时候能研制出来?一、中国光刻机现在多少纳米2018年3月,上海微电子的90nm光刻机项目通过正式验收。也就是说,我们的国产光刻机目前可以做到90纳米工艺。之前有网友爆料,上海微电子将于2020年12月下线首台采用ArF光源的SSA800/10W光刻机,这是一台国产浸没式DUV光刻机,可实现单次曝光28nm节点。所以网络里一直流传着这个说法。不过对于此消息,有人说是真的,有人说是假的。让人很是迷糊。上海微电子的确在做可以实现28纳米制程的国产DUV光刻机。只是是否通过验收,到底何时能交付,目前未知。28纳米将会是我们国产光刻机的最高工艺水平,严格来说,这个真的算不上高水平,它的前面还有14、7、5、3、2,甚至是1nm。但是28纳米是成熟工艺,生产成本低,只要不追求极致性能的情况下,这种制程的芯片,其性能也够用的,用来生产我们日常生活中的电子设备是没有问题的,例如电视、电视盒子、音响、电梯、空调、微波炉、冰箱、汽车等等。另外,根据研究机构ICInsights发布的《2020-2024年全球晶圆产能》报告,预计到2024年,半导体制程格局将出现10nm以下,10-20nm,20nm以上工艺三分天下的格局,各自市场占有率约为1/3,而28nm以上的成熟工艺在未来四年的市场份额没有明显变化,仍然有很大的市场,所以无需盲目地追求制程工艺。二、中国高端光刻机什么时候能研制出来很多人疑惑,中国是世界上工业生产能力最强的国家,为什么中国造不出高端的光刻机?其实最大的原因就是中国的工业是多而不精。光刻机并不是一项技术的突破,而是一整个光学领域绝大多数技术的突破。目前全球最顶尖的光刻机接近200吨,由差不多十万个零件组成。其中绝大多数都是核心零件,每一个零件都需要很多技术的突破才能做出来。有工程师称,里面一些零件需要打磨十年才能诞生。虽然最先进的光刻机出自荷兰,但荷兰公司也只是做一个组装和调试的工作,里面的核心零件来源于大多数西方国家。从美国到英国,从法国到比利时,所有站在西方阵营的国家合在一起,才能造出一台最顶尖的光刻机。所以中国要造最顶尖的光刻机并不是在和某一个国家对抗,而是在和整个西方世界对抗。这就好比班级考试,考试的科目有数百科。总成绩好点的学生固然能考出一个比较高的总成绩,但是这个学生不能让自己每一科的成绩都达到最高。和他相比,那些成绩不好的学生虽然偏科,但是他们总有一两科自己擅长的科目,这些科目总有得高分甚至是满分的机会。这些学生最好的科目加起来,就能组成一个非常高的“各科总成绩”。要造出最顶端的光刻机,就需要这些科目每一颗都得到极高的分数甚至是满分。所以中国的光刻机之路并不是突破几项新技术就能走稳、走好的,中国需要在整个光学技术上的绝大多数技术中得到突破,才能以一个国家的科技实力对抗整个西方社会。很多人疑惑中国什么时候能造出最顶尖的光刻机,这个问题的答案没有任何人能给出来。中国在光刻机领域遇到的困难,和中国当年造原子弹时,没有计算机,没有离心机,没有数据资料一样困难。当年中国在美国造出原子弹接近9年后拥有了自己的原子弹,中国现在打算大力研制光刻机也是近两年的事情。就目前来说,我国最顶尖的光刻机也就是国际上2005年左右的光刻机最顶尖水平,差距在15年左右。所以很多人认为,我国应该会在十来年左右达到让自己的光刻机达到国际社会的最顶尖水平。
光刻机有多大面积
光刻机占地面积是120cm×120cm
为什么光刻机成功了?
光刻机成功的原因有以下几点:技术进步、应用广泛、产业链完善、成本降低。1、技术进步:随着科技的不断进步,光刻机的技术也得到了不断的改进和完善。现代光刻机采用了更先进的光学元件和精密控制系统,使得其制造精度和速度都得到了极大的提升。2、应用广泛:光刻机的应用范围非常广泛,可以用于制造半导体芯片、平板显示器、LED等电子元件,以及MEMS、微纳米加工等领域。这些领域的发展也促进了光刻机技术的进步。3、产业链完善:光刻机是半导体产业链中的重要环节,其制造和应用需要涉及到光刻胶、光学元件、控制系统等多个领域。随着产业链的不断完善,光刻机的市场需求也得到了不断增加。4、成本降低:随着光刻机技术的不断进步和市场竞争的加剧,光刻机的制造成本也得到了不断降低。这使得更多的企业能够承担光刻机的成本,从而进一步促进了其市场需求。光刻机的作用光刻机主要用于半导体芯片的生产,利用光学投影技术把电路图案投影到硅片上进行照射,从而在硅片上形成显影图样。光刻机的主要作用是在制造半导体芯片时进行微缩制程,从而实现高集成度和高性能的芯片。光刻机的运算速度快,可靠性高,是电子产业中最重要的工具之一。同时,随着半导体产业的快速发展,光刻机不断发展出更精密和高效的版本,以满足制造更复杂芯片的需求。在现代科技和信息时代,光刻机的作用越来越广泛,经济和社会中起着重要的推动作用。
全球有几家能造光刻机的公司?
中国、日本、荷兰。在能够制造机器的这几家公司中,尤其以荷兰(ASML)技术最为先进。价格也最为高昂。光刻机的技术门槛极高,堪称人类智慧集大成的产物。目前在全球45纳米以下高端光刻机市场当中,荷兰ASML市场占有率达到80%以上,而且目前ASML是全球唯一能够达到7纳米精度光刻机的提供商,所以ASML才是全球芯片业真正的超级霸主一点都不过分。主要性能指标光刻机的主要性能指标有:支持基片的尺寸范围,分辨率、对准精度、曝光方式、光源波长、光强均匀性、生产效率等。分辨率是对光刻工艺加工可以达到的最细线条精度的一种描述方式。光刻的分辨率受受光源衍射的限制,所以与光源、光刻系统、光刻胶和工艺等各方面的限制。对准精度是在多层曝光时层间图案的定位精度。曝光方式分为接触接近式、投影式和直写式。曝光光源波长分为紫外、深紫外和极紫外区域,光源有汞灯,准分子激光器等。
世界上有几个能生产光刻机的国家?
全世界只有中国、日本、荷兰可以制造光刻机,日本的代表企业是尼康、佳能,曾经的光刻机“王者”,后来被荷兰ASML反超后就一蹶不振了,而中国也可以制造光刻机,只是达不到顶尖光刻机的精细程度。目前,荷兰ASML一家公司几乎垄断了全球的高端光刻机市场,主要是EUV光刻机,造价极高,暂时没有一家竞争企业可以与之匹敌,每年稳定向大客户供货。光刻机的分类光刻机一般根据操作的简便性分为三种,手动、半自动、全自动。1、手动:指的是对准的调节方式,是通过手调旋钮改变它的X轴,Y轴和thita角度来完成对准,对准精度可想而知不高了。2、半自动:指的是对准可以通过电动轴根据CCD的进行定位调谐。3、自动:指的是从基板的上载下载,曝光时长和循环都是通过程序控制,自动光刻机主要是满足工厂对于处理量的需要。
光刻机使用寿命
光刻机使用寿命为十年。一台光刻机的寿命也不仅仅在于一两代芯片,用193nm深紫外光刻机也是可以做到10nm乃至7nm芯片的生产的,只是工艺难度实现起来相对复杂,成本较高,比如采用自对准四次成型技术,就可以得到更加致密的结构,不过芯片层级的工艺变得复杂,需要更多掩模版和材料,所以用193nm光刻机生产7nm芯片非常不划算,到了这个程度必须上EUV光刻机。
光刻机是谁发明的 世界上第一台光刻机是谁发明的
品牌型号:慕朗迪光刻机 系统:k12光刻机是法国人Nicephore niepce(尼埃普斯)发明的,起初是Nicephore niepce发现了一种能够刻在油纸上的印痕,当其出现在了玻璃片上后,经过一段时间的暴晒,透光的部分就会变得很硬,但是在不透光的部分可以用松香和植物油将其洗掉。 光刻机(lithography)又名:掩模对准曝光机,曝光系统,光刻系统等,是制造芯片的核心装备。它采用类似照片冲印的技术,把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上。光刻机的主要性能指标有:支持基片的尺寸范围,分辨率、对准精度、曝光方式、光源波长、光强均匀性、生产效率等。分辨率是对光刻工艺加工可以达到的最细线条精度的一种描述方式。光刻的分辨率受受光源衍射的限制,所以与光源、光刻系统、光刻胶和工艺等各方面的限制。对准精度是在多层曝光时层间图案的定位精度。曝光方式分为接触接近式、投影式和直写式。曝光光源波长分为紫外、深紫外和极紫外区域,光源有汞灯,准分子激光器等。
中国光刻机最多的城市
中国光刻机最多的城市江苏无锡。光刻机(lithography)又名:掩模对准曝光机,曝光系统,光刻系统等,是制造芯片的核心装备。它采用类似照片冲印的技术,把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上。生产集成电路的简要步骤:利用模版去除晶圆表面的保护膜。将晶圆浸泡在腐化剂中,失去保护膜的部分被腐蚀掉后形成电路。用纯水洗净残留在晶圆表面的杂质。其中曝光机就是利用紫外线通过模版去除晶圆表面的保护膜的设备。一片晶圆可以制作数十个集成电路,根据模版曝光机分为两种:模版和晶圆大小一样,模版不动。模版和集成电路大小一样,模版随曝光机聚焦部分移动。其中模版随曝光机移动的方式,模版相对曝光机中心位置不变,始终利用聚焦镜头中心部分能得到更高的精度。成为的主流
为什么我国造不出光刻机
我国造不出光刻机,有以下三个原因:1.因为我们的技术有限。为了阻止我们的技术发展,西方国家阻碍了一些技术进入中国。因此,这一限制将影响中国在光刻机的发展。2.事实上,我们的许多组件的使用取决于国际市场,在这种情况下,我们很难获得国际市场的支持。3.ASML的成功是因为其技术的局限性,更重要的是,它把一些企业当成了自己的股东,比如三星、台积电,英特尔等等。所以在这种情况下,会发现光刻机在中国的发展并不是特别突出。正是因为光刻机的限制,中国在芯片领域的代工确实受到了很大的影响,华为不得不受到限制。因此,只有不断自主研究和开发属于我国的光刻机,才能打破这种束缚。
中国光刻机排名第一的是哪家公司?
光刻机国产排名第一的是上海微电子。目前全球只有四家能够制造光刻机的公司,分别是荷兰阿斯麦尔、日本尼康和佳能、中国上海微电子。这里说的光刻机指的是euv/duv浸润式光刻机。所以说,国内仅有一家能够制造光刻机的公司,既上海微电子,所以上海微电子排名第一。上海微电子公司简介:上海微电子是半导体行业的上市公司,公司坐落于张江高科技园区。公司成立于2002年,主要致力于大规模工业生产的投影光刻机研发,生产销售与服务,IC制造与先进封装,MEMS ,TSV/3D,TFT -OLED等制造领域。公司致力于以极致服务,造高端产品,创卓越价值,全天候,全方位,全身心地为顾客提供优质产品和技术支持与服务。
光刻机哪国家研制的
全世界只有中国、日本、荷兰可以制造光刻机,日本的代表企业是尼康、佳能,曾经的光刻机“王者”,后来被荷兰ASML反超后就一蹶不振了,而中国也可以制造光刻机,只是达不到顶尖光刻机的精细程度。目前,荷兰ASML一家公司几乎垄断了全球的高端光刻机市场,主要是EUV光刻机,造价极高,暂时没有一家竞争企业可以与之匹敌,每年稳定向大客户供货。光刻机的分类光刻机一般根据操作的简便性分为三种,手动、半自动、全自动。1、手动:指的是对准的调节方式,是通过手调旋钮改变它的X轴,Y轴和thita角度来完成对准,对准精度可想而知不高了。2、半自动:指的是对准可以通过电动轴根据CCD的进行定位调谐。3、自动:指的是从基板的上载下载,曝光时长和循环都是通过程序控制,自动光刻机主要是满足工厂对于处理量的需要。
蚀刻机和光刻机有什么区别?
蚀刻机和光刻机其实就是完全不同的两种设备,不论从功能还是结构上来说都是天差地别,光刻机是整个芯片制造过程中最为核心的设备,芯片的制程是由光刻机决定的,而不是蚀刻机。具体如下:1、工作原理如果把制造芯片比喻成盖房子,那么光刻机的作用就是把房子的结构标注在地上。刻蚀机就是在光刻完成以后才登场的设备,也是光刻完成以后最为重要的设备之一。刻蚀机最主要的作用就是按照光刻机已经标注好的线去做基础建设,把不需要的地方给清除掉,只留下光刻过程中标注好的线路。光刻机相当于画匠,刻蚀机是雕工。前者投影在硅片上一张精细的电路图(就像照相机让胶卷感光),后者按这张图去刻线(就像刻印章一样,腐蚀和去除不需要的部分)。2、结构光刻机的最主要的核心技术就是光源和光路,其光源和光路的主要组成部分有四个,光源、曝光、检测、和其他高精密机械组成。对比之下,蚀刻机的结构组成就要简单很多,主要是等离子体射频源、反应腔室和真空气路等组成。3、售价ASML的EUV光刻机单台售价很高,蚀刻机的售价要低很多了。4、工艺刻蚀机是将硅片上多余的部分腐蚀掉,光刻机是将图形刻到硅片上。5、难度光刻机的难度和精度大于刻蚀机。
光刻机哪个国家能造
光刻机的生产国家有荷兰、中国、日本、美国、韩国。相对于其他国家来说,目前的荷兰光刻机的精度为首。光刻机是一个制造芯片的机器,芯片上的图形模板(微电路)需要用机器来雕刻。这就是光刻机的基本原理,利用高级技术去制造芯片。又名:掩模对准曝光机,曝光系统,光刻系统等,是制造芯片的核心装备。它采用类似照片冲印的技术,把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上。
光刻机用来干嘛 光刻机的工作原理是怎样的
1、用途。 光刻机是芯片制造的核心设备之一,按照用途可以分为好几种:有用于生产芯片的光刻机;有用于封装的光刻机;还有用于LED制造领域的投影光刻机。 用于生产芯片的光刻机是中国在半导体设备制造上最大的短板,国内晶圆厂所需的高端光刻机完全依赖进口,本次厦门企业从荷兰进口的光刻机就是用于芯片生产的设备。 2、工作原理。 在加工芯片的过程中,光刻机通过一系列的光源能量、形状控制手段,将光束透射过画着线路图的掩模,经物镜补偿各种光学误差,将线路图成比例缩小后映射到硅片上,然后使用化学方法显影,得到刻在硅片上的电路图。 一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、激光刻蚀等工序。经过一次光刻的芯片可以继续涂胶、曝光。越复杂的芯片,线路图的层数越多,也需要更精密的曝光控制过程。
光刻机是什么
光刻机是制造微机电、光电、二极体大规模集成电路的关键设备。其分为两种,一种是模板与图样大小一致的contact aligner,曝光时模板紧贴晶圆;另一种是利用类似投影机原理的stepper,获得比模板更小的曝光图样。高端光刻机被称为“现代光学工业之花”,制造难度很大,全世界只有少数几家公司能制造。光刻机的品牌众多,根据采用不同技术路线的可以归纳成如下几类:高端的投影式光刻机可分为步进投影和扫描投影光刻机两种,分辨率通常在十几纳米至几微米之间,高端光刻机号称世界上最精密的仪器,世界上已有7000万美金的光刻机。高端光刻机堪称现代光学工业之花,其制造难度之大,全世界只有少数几家公司能够制造。国外品牌主要以荷兰ASML(镜头来自德国),日本Nikon(intel曾经购买过Nikon的高端光刻机)和日本Canon三大品牌为主。位于我国上海的SMEE已研制出具有自主知识产权的投影式中端光刻机,形成产品系列初步实现海内外销售。正在进行其他各系列产品的研发制作工作。生产线和研发用的低端光刻机为接近、接触式光刻机,分辨率通常在数微米以上。主要有德国SUSS、美国MYCRO NXQ4006、以及中国品牌。光刻机一般根据操作的简便性分为三种,手动、半自动、全自动A 手动:指的是对准的调节方式,是通过手调旋钮改变它的X轴,Y轴和thita角度来完成对准,对准精度可想而知不高了;B 半自动:指的是对准可以通过电动轴根据CCD的进行定位调谐;C 自动: 指的是 从基板的上载下载,曝光时长和循环都是通过程序控制,自动光刻机主要是满足工厂对于处理量的需要。
光刻机制造国家是谁?
中国、日本、荷兰。在能够制造机器的这几家公司中,尤其以荷兰(ASML)技术最为先进。价格也最为高昂。光刻机的技术门槛极高,堪称人类智慧集大成的产物。目前在全球45纳米以下高端光刻机市场当中,荷兰ASML市场占有率达到80%以上,而且目前ASML是全球唯一能够达到7纳米精度光刻机的提供商,所以ASML才是全球芯片业真正的超级霸主一点都不过分。主要性能指标光刻机的主要性能指标有:支持基片的尺寸范围,分辨率、对准精度、曝光方式、光源波长、光强均匀性、生产效率等。分辨率是对光刻工艺加工可以达到的最细线条精度的一种描述方式。光刻的分辨率受受光源衍射的限制,所以与光源、光刻系统、光刻胶和工艺等各方面的限制。对准精度是在多层曝光时层间图案的定位精度。曝光方式分为接触接近式、投影式和直写式。曝光光源波长分为紫外、深紫外和极紫外区域,光源有汞灯,准分子激光器等。
国内光刻机排名第一是哪个公司?
光刻机国产排名第一的是上海微电子。目前全球只有四家能够制造光刻机的公司,分别是荷兰阿斯麦尔、日本尼康和佳能、中国上海微电子。这里说的光刻机指的是euv/duv浸润式光刻机。所以说,国内仅有一家能够制造光刻机的公司,既上海微电子,所以上海微电子排名第一。上海微电子公司简介:上海微电子是半导体行业的上市公司,公司坐落于张江高科技园区。公司成立于2002年,主要致力于大规模工业生产的投影光刻机研发,生产销售与服务,IC制造与先进封装,MEMS ,TSV/3D,TFT -OLED等制造领域。公司致力于以极致服务,造高端产品,创卓越价值,全天候,全方位,全身心地为顾客提供优质产品和技术支持与服务。
光刻机是什么东西?
光刻机(Mask Aligner) 又名:掩模对准曝光机,曝光系统,光刻系统等,是制造芯片的核心装备。它采用类似照片冲印的技术,把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上。
光刻机是谁发明的 光刻机发明的人是谁
1、1822年法国人Nicephore niepce发明了光刻机,在早期阶段其功能简单,而且使用的材料也是较为粗糙的,通过材料光照实验之后,Nicephore niepce发现能够复制一种刻着在油纸上的印痕,而在其出现在玻璃片上后,经过一段时间的日晒,其透光部分的沥青就会变得很硬,但在不透光部分则可以用松香和植物油将其洗掉。 2、尽管光刻机发明的时间较早,不过在其发明之后,并没有在各行业领域之中被使用,直到第2次世界大战时,该技术应用于印刷电路板,所使用的材料和早期发明时使用的材料也已经有了极大的区别,在塑料板上通过铜线路制作,让电路板得以普及,短期之内就成为了众多电子设备领域中最为关键的材料之一。
光刻机哪个国家能造
全世界只有中国、日本、荷兰可以制造光刻机,日本的代表企业是尼康、佳能,曾经的光刻机“王者”,后来被荷兰ASML反超后就一蹶不振了,而中国也可以制造光刻机,只是达不到顶尖光刻机的精细程度。目前,荷兰ASML一家公司几乎垄断了全球的高端光刻机市场,主要是EUV光刻机,造价极高,暂时没有一家竞争企业可以与之匹敌,每年稳定向大客户供货。光刻机的分类光刻机一般根据操作的简便性分为三种,手动、半自动、全自动。1、手动:指的是对准的调节方式,是通过手调旋钮改变它的X轴,Y轴和thita角度来完成对准,对准精度可想而知不高了。2、半自动:指的是对准可以通过电动轴根据CCD的进行定位调谐。3、自动:指的是从基板的上载下载,曝光时长和循环都是通过程序控制,自动光刻机主要是满足工厂对于处理量的需要。
光刻机是干什么用的
刻机是用来制造芯片的。光刻机又被称为掩膜对准曝光机,在芯片生产中用于光刻工艺,而光刻工艺又是生产流程中最关键的一步,所以光刻机又是芯片生产中不可缺少的设备。光刻机是干什么用的光刻机决定了芯片的精密尺寸,设计师设计好芯片线路,在通过光刻机将线路刻在芯片上,其尺度通常在微米级以上。光刻机是芯片生产中最昂贵也是技术难度最大的设备,因为其决定了一块芯片的整体框架与功能。其实生产高精度芯片并不难,只是生产速度太慢,而光刻机能快速生产高精度的芯片,所以很重要。
为什么我国造不出光刻机?
我国造不出光刻机,有以下三个原因:1.因为我们的技术有限。为了阻止我们的技术发展,西方国家阻碍了一些技术进入中国。因此,这一限制将影响中国在光刻机的发展。2.事实上,我们的许多组件的使用取决于国际市场,在这种情况下,我们很难获得国际市场的支持。3.ASML的成功是因为其技术的局限性,更重要的是,它把一些企业当成了自己的股东,比如三星、台积电,英特尔等等。所以在这种情况下,会发现光刻机在中国的发展并不是特别突出。正是因为光刻机的限制,中国在芯片领域的代工确实受到了很大的影响,华为不得不受到限制。因此,只有不断自主研究和开发属于我国的光刻机,才能打破这种束缚。
光刻机是谁发明的
品牌型号:慕朗迪光刻机 系统:k12 光刻机是法国人Nicephore niepce(尼埃普斯)发明的,起初是Nicephore niepce发现了一种能够刻在油纸上的印痕,当其出现在了玻璃片上后,经过一段时间的暴晒,透光的部分就会变得很硬,但是在不透光的部分可以用松香和植物油将其洗掉。 光刻机(lithography)又名:掩模对准曝光机,曝光系统,光刻系统等,是制造芯片的核心装备。它采用类似照片冲印的技术,把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上。光刻机的主要性能指标有:支持基片的尺寸范围,分辨率、对准精度、曝光方式、光源波长、光强均匀性、生产效率等。分辨率是对光刻工艺加工可以达到的最细线条精度的一种描述方式。光刻的分辨率受受光源衍射的限制,所以与光源、光刻系统、光刻胶和工艺等各方面的限制。对准精度是在多层曝光时层间图案的定位精度。曝光方式分为接触接近式、投影式和直写式。曝光光源波长分为紫外、深紫外和极紫外区域,光源有汞灯,准分子激光器等。
光刻机怎么制造芯片
摘要:光刻机顾名思义就是“用光来雕刻的机器”,是芯片产业中宝贵且技术难度最大的机器。光刻机的种类有哪些?光刻机又名:掩模对准曝光机,曝光系统,光刻系统等,有接触式曝光、接近式曝光、投影式曝光等光刻机。光刻机怎么制造芯片?下面来了解下。一、光刻机的种类有哪些1、接触式曝光(ContactPrinting)掩膜板直接与光刻胶层接触。曝光出来的图形与掩膜板上的图形分辨率相当,设备简单。接触式,根据施加力量的方式不同又分为:软接触,硬接触和真空接触。(1)软接触:就是把基片通过托盘吸附住(类似于匀胶机的基片放置方式),掩膜盖在基片上面。(2)硬接触:是将基片通过一个气压(氮气),往上顶,使之与掩膜接触。(3)真空接触:是在掩膜和基片中间抽气,使之更加好的贴合(想一想把被子抽真空放置的方式)。缺点:光刻胶污染掩膜板;掩膜板的磨损,容易损坏,寿命很低(只能使用5~25次);容易累积缺陷;上个世纪七十年代的工业水准,已经逐渐被接近式曝光方式所淘汰了,国产光刻机均为接触式曝光,国产光刻机的开发机构无法提供工艺要求更高的非接触式曝光的产品化。2、接近式曝光(ProximityPrinting)掩膜板与光刻胶基底层保留一个微小的缝隙(Gap),Gap大约为0~200μm。可以有效避免与光刻胶直接接触而引起的掩膜板损伤,使掩膜和光刻胶基底能耐久使用;掩模寿命长(可提高10倍以上),图形缺陷少。接近式在现代光刻工艺中应用最为广泛。3、投影式曝光(ProjectionPrinting)在掩膜板与光刻胶之间使用光学系统聚集光实现曝光。一般掩膜板的尺寸会以需要转移图形的4倍制作。优点:提高了分辨率;掩膜板的制作更加容易;掩膜板上的缺陷影响减小。投影式曝光分类:(1)扫描投影曝光(ScanningProjectPrinting)。70年代末~80年代初,〉1μm工艺;掩膜板1:1,全尺寸;(2)步进重复投影曝光(Stepping-repeatingProjectPrinting或称作Stepper)。80年代末~90年代,0.35μm(Iline)~0.25μm(DUV)。掩膜板缩小比例(4:1),曝光区域(ExposureField)22×22mm(一次曝光所能覆盖的区域)。增加了棱镜系统的制作难度。(3)扫描步进投影曝光(Scanning-SteppingProjectPrinting)。90年代末~至今,用于≤0.18μm工艺。采用6英寸的掩膜板按照4:1的比例曝光,曝光区域(ExposureField)26×33mm。优点:增大了每次曝光的视场;提供硅片表面不平整的补偿;提高整个硅片的尺寸均匀性。但是,同时因为需要反向运动,增加了机械系统的精度要求。4、高精度双面主要用于中小规模集成电路、半导体元器件、光电子器件、声表面波器件、薄膜电路、电力电子器件的研制和生产。高精度特制的翻版机构、双视场CCD显微显示系统、多点光源曝光头、真空管路系统、气路系统、直联式无油真空泵、防震工作台等组成。适用于φ100mm以下,厚度5mm以下的各种基片的对准曝光。5、高精度单面针对各大专院校、企业及科研单位,对光刻机使用特性研发的一种高精度光刻机,中小规模集成电路、半导体元器件、光电子器件、声表面波器件的研制和生产。高精度对准工作台、双目分离视场CCD显微显示系统、曝光头、气动系统、真空管路系统、直联式无油真空泵、防震工作台和附件箱等组成。解决非圆形基片、碎片和底面不平的基片造成的版片分离不开所引起的版片无法对准的问题。二、光刻机怎么制造芯片1、沉积制造芯片的第一步,通常是将材料薄膜沉积到晶圆上。材料可以是导体、绝缘体或半导体。2、光刻胶涂覆进行光刻前,首先要在晶圆上涂覆光敏材料“光刻胶”或“光阻”,然后将晶圆放入光刻机。3、曝光在掩模版上制作需要印刷的图案蓝图。晶圆放入光刻机后,光束会通过掩模版投射到晶圆上。光刻机内的光学元件将图案缩小并聚焦到光刻胶涂层上。在光束的照射下,光刻胶发生化学反应,光罩上的图案由此印刻到光刻胶涂层。4、计算光刻光刻期间产生的物理、化学效应可能造成图案形变,因此需要事先对掩模版上的图案进行调整,确保最终光刻图案的准确。5、烘烤与显影晶圆离开光刻机后,要进行烘烤及显影,使光刻的图案永久固定。洗去多余光刻胶,部分涂层留出空白部分。6、刻蚀显影完成后,使用气体等材料去除多余的空白部分,形成3D电路图案。7、计量和检验芯片生产过程中,始终对晶圆进行计量和检验,确保没有误差。检测结果反馈至光刻系统,进一步优化、调整设备。这一部,就需要用到纳米级超精密运动平台这一关键设备了。8、离子注入在去除剩余的光刻胶之前,可以用正离子或负离子轰击晶圆,对部分图案的半导体特性进行调整。9、视需要重复制程步_从薄膜沉积到去除光刻胶,整个流程为晶圆片覆盖上一层图案。而要在晶圆片上形成集成电路,完成芯片制作,这一流程需要不断重复,可多达100次。10、封装芯片最后一步,运用超精密运动平台,进行晶圆切割,获得单个芯片,封装在保护壳中。这样,成品芯片就可以用来生产电视、平板电脑或者其他数字设备了!
光刻机是干什么用的,工作原理是什么?
一、用途光刻机是芯片制造的核心设备之一,按照用途可以分为好几种:有用于生产芯片的光刻机;有用于封装的光刻机;还有用于LED制造领域的投影光刻机。用于生产芯片的光刻机是中国在半导体设备制造上最大的短板,国内晶圆厂所需的高端光刻机完全依赖进口,本次厦门企业从荷兰进口的光刻机就是用于芯片生产的设备。二、工作原理在加工芯片的过程中,光刻机通过一系列的光源能量、形状控制手段,将光束透射过画着线路图的掩模,经物镜补偿各种光学误差,将线路图成比例缩小后映射到硅片上,然后使用化学方法显影,得到刻在硅片上的电路图。一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、激光刻蚀等工序。经过一次光刻的芯片可以继续涂胶、曝光。越复杂的芯片,线路图的层数越多,也需要更精密的曝光控制过程。扩展资料光刻机的结构:1、测量台、曝光台:是承载硅片的工作台。2、激光器:也就是光源,光刻机核心设备之一。3、光束矫正器:矫正光束入射方向,让激光束尽量平行。4、能量控制器:控制最终照射到硅片上的能量,曝光不足或过足都会严重影响成像质量。5、光束形状设置:设置光束为圆型、环型等不同形状,不同的光束状态有不同的光学特性。6、遮光器:在不需要曝光的时候,阻止光束照射到硅片。7、能量探测器:检测光束最终入射能量是否符合曝光要求,并反馈给能量控制器进行调整。8、掩模版:一块在内部刻着线路设计图的玻璃板,贵的要数十万美元。9、掩膜台:承载掩模版运动的设备,运动控制精度是nm级的。10、物镜:物镜用来补偿光学误差,并将线路图等比例缩小。11、硅片:用硅晶制成的圆片。硅片有多种尺寸,尺寸越大,产率越高。题外话,由于硅片是圆的,所以需要在硅片上剪一个缺口来确认硅片的坐标系,根据缺口的形状不同分为两种,分别叫flat、 notch。12、内部封闭框架、减振器:将工作台与外部环境隔离,保持水平,减少外界振动干扰,并维持稳定的温度、压力。参考资料来源:百度百科-光刻机
世界上能制造光刻机的国家有哪些
光刻机又名:掩模对准曝光机,曝光系统,光刻系统等。常用的光刻机是掩膜对准光刻,所以叫MaskAlignmentSystem。目前,世界上能制造光刻机的国家有荷兰、日本、德国和中国。 目前能制造高端光刻机的厂家有:荷兰ASML,日本Nikon,日本Canon,以及上海微电子装备和德国的欧泰克。
光刻机是谁发明的
法国人Nicephore niepce。尽管光刻机发明的时间较早,但并没有在各行业领域之中被使用,直到第2次世界大战时,该技术应用于印刷电路板,所使用的材料和早期发明时使用的材料也已经有了极大区别,在塑料板上通过铜线路制作,让电路板得以普及,短期之内就成为了众多电子设备领域中关键材料之一。 光刻机:光刻机(Mask Aligner) 又名:掩模对准曝光机,曝光系统,光刻系统等,是制造芯片的核心装备。它采用类似照片冲印的技术,把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上。 光刻机一般根据操作的简便性分为三种,手动、半自动、全自动。 A手动:指的是对准的调节方式,是通过手调旋钮改变它的X轴,Y轴和thita角度来完成对准,对准精度可想而知不高了; B半自动:指的是对准可以通过电动轴根据CCD的进行定位调谐; C自动:指的是从基板的上载下载,曝光时长和循环都是通过程序控制,自动光刻机主要是满足工厂对于处理量的需要。
什么是光刻机
光刻机(Mask Aligner)是制造微机电、光电、二极体大规模集成电路的关键设备。其分为两种,一种是模板与图样大小一致的contact aligner,曝光时模板紧贴晶圆;另一种是利用类似投影机原理的stepper,获得比模板更小的曝光图样。高端光刻机被称为“现代光学工业之花”,制造难度很大,全世界只有少数几家公司能制造。生产集成电路的简要步骤:利用模版去除晶圆表面的保护膜。将晶圆浸泡在腐化剂中,失去保护膜的部分被腐蚀掉后形成电路。用纯水洗净残留在晶圆表面的杂质。其中曝光机就是利用紫外线通过模版去除晶圆表面的保护膜的设备。一片晶圆可以制作数十个集成电路,根据模版曝光机分为两种:模版和晶圆大小一样,模版不动。模版和集成电路大小一样,模版随曝光机聚焦部分移动。其中模版随曝光机移动的方式,模版相对曝光机中心位置不变,始终利用聚焦镜头中心部分能得到更高的精度。成为的主流。
光刻机是什么意思 光刻机的作用
1、光刻机(Mask Aligner) 又名:掩模对准曝光机,曝光系统,光刻系统等,是制造芯片的核心装备。它采用类似照片冲印的技术,把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上。 2、生产集成电路的简要步骤:利用模版去除晶圆表面的保护膜。将晶圆浸泡在腐化剂中,失去保护膜的部分被腐蚀掉后形成电路。用纯水洗净残留在晶圆表面的杂质。
光刻机是什么 光刻机是什么东西
光刻机又名掩模对准曝光机、曝光系统、光刻系统等,是制造芯片的核心装备。它采用类似照片冲印的技术,把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上。光刻机的种类可分为:接触式曝光、接近式曝光、投影式曝光。 光刻机的工作原理是通过一系列的光源能量、形状控制手段,将光束透射过画着线路图的掩模,经物镜补偿各种光学误差,将线路图成比例缩小后映射到硅片上。然后使用化学方法显影,得到刻在硅片上的电路图。 一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、激光刻蚀等工序。光刻机的制造和维护需要高度的光学和电子工业基础,因此,世界上只有少数厂家掌握。 光刻机的品牌众多,根据采用不同技术路线的可以归纳成如下几类:高端的投影式光刻机可分为步进投影和扫描投影光刻机两种,分辨率通常七纳米至几微米之间,高端光刻机号称世界上最精密的仪器,世界上已有1.2亿美金一台的光刻机。高端光刻机堪称现代光学工业之花,其制造难度之大,全世界只有少数几家公司能够制造。国外品牌主要以荷兰ASML,日本Nikon和日本Canon三大品牌为主。
光刻机是什么东西
光刻机是是制造芯片的核心装备。光刻机也可以称为掩模对准曝光机、曝光系统或光刻系统等。它采用类似照片冲印的技术,把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上。光刻机的种类可分为:接触式曝光、接近式曝光、投影式曝光。光刻机的工作原理是通过一系列的光源能量、形状控制手段,将光束透射过画着线路图的掩模,经物镜补偿各种光学误差,将线路图成比例缩小后映射到硅片上。然后使用化学方法显影,得到刻在硅片上的电路图。目前,世界上只有少数厂家拥有生产光刻机的技术。
光刻机是干什么用的,工作原理是什么?
一、用途光刻机是芯片制造的核心设备之一,按照用途可以分为好几种:有用于生产芯片的光刻机;有用于封装的光刻机;还有用于LED制造领域的投影光刻机。用于生产芯片的光刻机是中国在半导体设备制造上最大的短板,国内晶圆厂所需的高端光刻机完全依赖进口,本次厦门企业从荷兰进口的光刻机就是用于芯片生产的设备。二、工作原理在加工芯片的过程中,光刻机通过一系列的光源能量、形状控制手段,将光束透射过画着线路图的掩模,经物镜补偿各种光学误差,将线路图成比例缩小后映射到硅片上,然后使用化学方法显影,得到刻在硅片上的电路图。一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、激光刻蚀等工序。经过一次光刻的芯片可以继续涂胶、曝光。越复杂的芯片,线路图的层数越多,也需要更精密的曝光控制过程。扩展资料光刻机的结构:1、测量台、曝光台:是承载硅片的工作台。2、激光器:也就是光源,光刻机核心设备之一。3、光束矫正器:矫正光束入射方向,让激光束尽量平行。4、能量控制器:控制最终照射到硅片上的能量,曝光不足或过足都会严重影响成像质量。5、光束形状设置:设置光束为圆型、环型等不同形状,不同的光束状态有不同的光学特性。6、遮光器:在不需要曝光的时候,阻止光束照射到硅片。7、能量探测器:检测光束最终入射能量是否符合曝光要求,并反馈给能量控制器进行调整。8、掩模版:一块在内部刻着线路设计图的玻璃板,贵的要数十万美元。9、掩膜台:承载掩模版运动的设备,运动控制精度是nm级的。10、物镜:物镜用来补偿光学误差,并将线路图等比例缩小。11、硅片:用硅晶制成的圆片。硅片有多种尺寸,尺寸越大,产率越高。题外话,由于硅片是圆的,所以需要在硅片上剪一个缺口来确认硅片的坐标系,根据缺口的形状不同分为两种,分别叫flat、 notch。12、内部封闭框架、减振器:将工作台与外部环境隔离,保持水平,减少外界振动干扰,并维持稳定的温度、压力。参考资料来源:百度百科-光刻机
光刻机是干什么用的
光刻机是用来制造芯片的。光刻机又被称为掩膜对准曝光机,在芯片生产中用于光刻工艺,而光刻工艺又是生产流程中最关键的一步,所以光刻机又是芯片生产中不可缺少的设备。 光刻机决定了芯片的精密尺寸,设计师设计好芯片线路,在通过光刻机将线路刻在芯片上,其尺度通常在微米级以上。 光刻机是芯片生产中最昂贵也是技术难度最大的设备,因为其决定了一块芯片的整体框架与功能。 其实生产高精度芯片并不难,只是生产速度太慢,而光刻机能快速生产高精度的芯片,所以很重要。
目前最先进的光刻机
目前最先进的光刻机荷兰生产的。光刻机,被称为现代光学工业之花,制造难度非常大,全世界只有少数几家公司能够制造。用于生产芯片的光刻机是中国在半导体设备制造上最大的短板,国内晶圆厂所需的高端光刻机完全依赖进口。在能够制造机器的这几家公司中,尤其以荷兰技术最为先进,价格也最为高昂。光刻机的技术门槛极高,堪称人类智慧集大成的产物。光刻机是生产大规模集成电路的核心设备,是制造和维护光学和电子工业的基础。光刻机技术目前是世界上最尖端的技术之一,只有少量国家掌握,所以光刻机的价格是非常昂贵的。相关介绍光刻机是一个高精尖的技术,其技术难度是全球公认的,如果没有持续强大的研发投入根本不可能到技术领先。ASML从成立至今,对于研发的投入都非常大。研发费用占营收的比例达到22.8%,这个比例是非常高的。正因为有大量资金的投入,所以ASML在关键技术领域一直处于领先地位。从1991年PAS5000光刻机面市,取得巨大成功开始。再到2000-2001年具有双工作台、浸没式光刻技术的Twinscan XT、Twinscan NXT系列研制成功,到强大的研发投入让ASML的技术一直处于全球领先。虽然ASML是一家荷兰公司,但他背后却有着欧盟以及美国的力量,很多关键技术都由美国以及欧盟国家提供。
中国有荷兰光刻机吗
估计大概好像可能也许到目前还没有的,中国不久会自己生产出来的!不会用什么荷兰啊,西班牙的什么光刻机的。
光刻机股票龙头股有哪些
1、大族激光(002008):2020年6月17日公司在互动平台称:公司在研光刻机项目分辨率3- 5μm,主要聚焦在分立器件、LED等领域的应用,今年有望实现小批量销售。 2、张江高科(600895):公司在互动平台表示,上海张江浩成创业投资有限公司2016年投资了 上海微电子装备有限公司22,345万元,投资比例为10.779%。 3、晶方科技(603005):公司在互动平台表示,荷兰光刻机制造商ASML为公司参与并购的荷兰 Anteryon公司的最主要客户之一。Anteryon为全球同时拥有混合镜头、晶圆级微型光学器件工艺 技术设计、特性材料及量产能力的技术创新公司,其产品可广泛应用于半导体精密设备、工业自 动化、汽车、安防、3D传感器为代表的消费类电子等应用领域。 4、赛微电子(300456):公司在互动易平台披露:公司一直为全球光刻机巨头厂商提供透镜系 统MEMS部件的工艺开发与晶圆制造服务。ASML为公司商业合作伙伴。公司瑞典与北京分别拥有 数台光刻机;瑞典产线2017-2019年产能利用率一直保持在80%以上的高水平 5、万业企业(600641):全资子公司凯世通采取“领先一步”的策略、采用有国际竞争力的设 计理念,着力研制16纳米及以下制程的FinFET集成电路离子注入机,并针对研制低能大束流离子 注入机所需要解决的关键技术和技术难点,建立起相应的研发平台、相关核心关键技术及工艺的 研究参数数据库和性能检测规范标准。2019年凯世通的低能大束流离子注入机迁机成功,顺利进 入离子注入晶圆验证阶段。参股公司上海半导体装备材料基金持有华卓精科2.08%股权。 6、上海新阳(300236):公司在互动易平台表示,中芯国际是公司的主要客户之一。2020年2 月,公司在互动易平台披露,公司KRF光刻机能支持96层3D NAND用光刻胶研究,及250nm、 130nm工艺制程逻辑电路用光刻胶研究。公司正在加快开发第三大核心技术——光刻技术,在集 成电路制造用ArF干法、KrF厚膜胶、I线等高端光刻胶领域已有重大突破。同时,积极布局半导体 硅片、半导体湿法工艺设备、平板液晶显示用光刻胶等业务领域。 7、南大光电(300346):超募资金投资”ArF光刻胶产品的开发与产业化”项目。 8、飞凯材料(300398):公司从事PCB光刻胶专用化学品。 9、胜利精密(002426):胜利精密计划募资不超过20亿元,投向光刻机产业化。 10、华特气体(688268):华特气体是特种气体龙头企业。 11、福晶科技(002222):公司是全球最大的LBO、BBO晶体供应商,也是全球重要的Nd: YVO4晶体供应商,控股子公司青岛海泰光电技术有限公司是国内最大的KTP晶体生产商。公司产 品已被全球各大激光器公司广泛采用,公司与客户建立了良好的合作关系,在客户中享有良好的 声誉,并树立了良好的品牌形象。公司品牌“CASTECH”已在全球激光界树立了高技术、高品 质、优服务的市场形象,核心产品被国际业界誉为“中国牌晶体”。 12、智光电气(002169):粤芯采购的是荷兰ASML阿斯麦公司的光刻机。智光电气间接持有粤 芯半导体股权。 13、容大感光(300576):公司为拓展业务范围及产品应用领域,投资设立控股子公司上海芯刻微 材料技术有限责任公司进行193nm干法光刻胶研发及产业化项目。 14、强力新材(300429):公司从事PCB刻胶专用化学品。 15、晶瑞股份(300655):该公司光刻胶产品已经通过中芯国际上线测试并取得订单。 16、光华科技(002741):针对面板行业对光阻材料的巨大需求,公司引入韩国光阻材料供应商 SMS、KISCO、DKC,国内部分客户已进入材料打样测试认证阶段,下一步公司将配合客户逐步 实现量产。 17、蓝英装备(300293)公司在互动平台称:公司瑞士子公司UCMAG主要为光学和精密仪器行 业提供清洗设备。对于精密光学、医学工程、精密机械以及PVD、CVD涂层前清洗等典型的清洁 度要求最高的应用领域,公司在精密清洗业务板块的代表产品UCM系统可提供全套个性化的设备 及解决方案。凭借行业领先的技术实力,UCMAG为ASML(荷兰光刻机制造商阿斯麦公司)及其 供应商提供极紫外光刻机(EUV)的光学系统相关关键部件的清洗设备。 18、江化微(603078):公司孙公司无锡澄泓生产的产品主要是光刻胶剥离液,目前主要用在液 晶面板领域。 19、高盟新材(300200):公司主营业务为超净高纯试剂、光刻胶配套试剂等湿电子化学品的研 发、生产和销售。 20、奥普光电(002338):公司从事的主要业务为光电测控仪器设备、光学材料和光栅编码器等 产品的研发、生产与销售。2020年5月31日互动平台讯,公司大股东长春光机所正在研发更高水 平的光刻机曝光系统。 21、西陇科学(002584):公司是一家专业从事微电子化学品的产品研发、生产和销售的高新技 术企业,主导产品包括超净高纯试剂、光刻胶、功能性材料、锂电池材料和基础化工材料等。 相关推荐 22、同益股份(300538):2019年3月13日公司互动平台披露博砚电子为宝通辰韬投资,该公司 是一家研发、生产光阻的厂家,主要产品为彩色滤光片用光阻黑色矩阵光阻、感光间隙材料,产品广 泛适用于液晶显示屏、印刷电路和集成电路以及印刷制版等。 23、广信材料(300537):2018年公司主营业务产品仍以光刻胶专用化学品为主,分为光刻胶用 光引发剂和光刻胶树脂两大系列。
光刻机真的很难造吗?
总结下来,主要有以下几点:1、技术上壁垒高。ASML总裁Peter Wennink也在媒体上方言:高端的EUV光刻机永远不可能(被中国)模仿。“因为我们是系统集成商,我们将数百家公司的技术整合在一起,为客户服务。这种机器有80000个零件,其中许多零件非常复杂。以蔡司公司为例,为我们生产镜头,各种反光镜和其他光学部件,世界上没有一家公司能模仿他们。此外,我们的机器完全装有传感器,一旦检测到有异常情况发生,Veldhoven总部就会响起警报。”2、长周期投入。光刻机是典型到极致的高风险、高投入的赛道,前期的投入很高收益很慢,有时候身体要贴钱投入。从ASML的研发投入基本达到15%以上,有时候全年负增长也是常态。据一位在ASML工作的知乎作者@俗不可耐透露:“ASML的EUV光刻机才真正开始盈利”,而ASML在这项技术上投入的时间是27年。试问有多少企业可以做到。3、更换供应商成本太高。买到一台机器和用好机器是两码事。ASML极紫外(EUV)光刻机每台售价达到1.2亿美元,重达180吨,零件超过10万个,运输时能装满40个集装箱,安装调试时间超过一年。除此之外,磨合与提高良率都需要时间堆砌,只要没有大的技术变革,厂商们不可能轻易放弃ASML当其他厂商的小白鼠的。台积电(占据全球晶圆代工的大半壁江山)、三星、英特尔、格罗方德包括国内的中芯国际都是ASML的客户,其中三星、英特尔、格罗方德还是ASML的股东,三大巨头转投其他家的可能不大。光刻机之所以重要,在于它是实现摩尔定律的基础:摩尔定律指出集成电路上能被集成的晶体管数目,将会以每18个月翻一番的速度稳定增长。可以把晶圆的整体构造想象成在微观世界构建大楼,如果想让整个建筑有更多的小房间可以容下晶体管,这就要求房屋的整体框架要精细再精细。反映到光刻机上就意味着它投射到晶圆上的尺寸越小。EUV光刻机代表了大厂在先进制程方面的领先性,目前只有荷兰ASML一家能够提供可供量产用的EUV光刻机。各大Foundry厂和IDM厂在7nm以下的最高端工艺上都会采用EUV光刻机,客户以英特尔、台积电、三星、SK海力士为主。ASML在2019年出售了26台极紫外线(EUV)光刻设备,大概一半供给了台积电。
中国光刻机技术如何了啊?
中国有了自己的光刻机,中科院光电技术研究所承担的国家重大科研装备研制项目“超分辨光刻装备研制”通过验收。这是世界上第一台利用紫外光实现22nm分辨率的超分辨率光刻设备,为纳米光学加工提供了全新的解决方案。在光电所的努力下,我国的R&D光刻机跳出了通过减小波长、增加数值孔径来提高分辨率的老路,为突破22nm甚至10nm光刻节点提供了全新的技术,也为超分辨率光刻设备提供了理论基础。扩展信息:利用超分辨率光刻设备,项目组为航天科技集团第八研究院、中国科学院上海微系统与信息技术研究所、电子科技大学、四川大学华西第二医院、重庆大学等单位制备了一系列纳米功能器件。包括大口径薄膜反射镜、超导纳米线单光子探测器、切伦科夫辐射装置、生化传感器芯片、超表面成像装置等。验证了超分辨光刻设备纳米功能器件加工能力,达到了实用化水平。
中国最先进光刻机水平如何?
我国九十纳米的光刻机,在这个领域水平的应当属于一流水平。但是还远远比不上国外的水平,毕竟国外的光刻机能够制作十纳米以内的芯片,而这一年我国目前还是远远无法做到的。对此我国也正在努力进行追赶,但是短期之内还暂时无法实现,毕竟我国在光刻机这一步起步要远远晚于国外。并且很多技术都已经被国外垄断,我国只能够自主进行设计,期待有一天能够实现弯道超车。我国芯片水平难以前进,这与人才有关。我国芯片水平局限于当前,这个标准与人才有关。我国无法培养出相关方面的人才,毕竟在这一领域内,我国还无法和西方进行比较。尤其是在人才方面根本无法和西方进行对比。这也导致我们没有优秀的工程师,只能够请国外的高薪工程师。但是国外请来的高薪工程师对技术把关非常严格,一般情况下是不会将技术透露给我国工程师,这也导致我国芯片水平局限于当前尴尬的地步。第二点便是资金不够。这里所说的资金不够,并不是所说的投资不够,而是光刻机芯片这一行业的利润不够。因为我国目前市场上的芯片都是由外国制造的,国产芯片在我国市场根本没有任何竞争空间。这也导致了很多科技公司不愿意往芯片这个方面发展,这也是我国芯片落后于西方国家的其中一个原因。第三点便是没有自主设计专利。目前国际上的芯片设计专利都已经被国外的光刻机公司垄断,我国能够申请的专利少之又少。基本上芯片设计的所有方面的专利都已经申请完了,剩下的专利技术对于芯片提升来说用处不大。所以归根结底以上三点便是我国芯片落后于西方国家的根本原因。
全球有几台光刻机
从2015年第一台EUV光刻机问世以来,ASML的产量逐年增加:2015年1台,2016年4台,2017年11台,2018年18台,2019年26台,2020年31台,2021年41台。因此到2021年㡳全球EUV光刻机累计数量已经达到132台。
中国为何造不出光刻机?
这是个伪命题。中国并不是造不出光刻机,而是中国目前造不出最先进的极紫外光刻机。砷紫外光刻机中国上海微电子公司已经造出并有销售
什么是光刻机 工作原理是什么
1、光刻机,是现代光学工业之花,是半导体行业中的核心技术。可能有很多人都无法切身理解光刻机的重要地位。光刻机,是制造芯片的机器。要是没有了光刻机,我们就没有办法造出芯片,自然也就不会有我们现在的手机、电脑了。 2、光刻机是用于芯片制造的核心设备,按照用途可以分为用于生产芯片的光刻机、用于封装的光刻机和用于LED制造领域的投影光刻机。 3、目前,在全世界范围内,有能力生产光刻机的企业只有寥寥可数的几家,其中的霸主是一家叫做ASML的荷兰公司。ASML是一家市值大约在900亿美元,有着一万六千名员工的公司。在这一万六千人中,研发人员占比超过百分之三十六, 也就是说有超过六千人是研发人员。正是这一万六千人,帮助ASML研发出了世界上最顶尖的光刻机——EUV光刻机。
光刻机工作原理 你知道吗
1、测量台、曝光台:是承载硅片的工作台。 2、激光器:也就是光源,光刻机核心设备之一。 3、光束矫正器:矫正光束入射方向,让激光束尽量平行。 4、能量控制器:控制最终照射到硅片上的能量,曝光不足或过足都会严重影响成像质量。 5、光束形状设置:设置光束为圆型、环型等不同形状,不同的光束状态有不同的光学特性。 6、遮光器:在不需要曝光的时候,阻止光束照射到硅片。 7、能量探测器:检测光束最终入射能量是否符合曝光要求,并反馈给能量控制器进行调整。 8、掩模版:一块在内部刻着线路设计图的玻璃板,贵的要数十万美元。 9、掩膜台:承载掩模版运动的设备,运动控制精度是nm级的。 10、物镜:物镜用来补偿光学误差,并将线路图等比例缩小。 11、硅片:用硅晶制成的圆片。硅片有多种尺寸,尺寸越大,产率越高。题外话,由于硅片是圆的,所以需要在硅片上剪一个缺口来确认硅片的坐标系,根据缺口的形状不同分为两种,分别叫flat、 notch。 12、内部封闭框架、减振器:将工作台与外部环境隔离,保持水平,减少外界振动干扰,并维持稳定的温度、压力。
中国光刻机公司排名
光刻机国产排名第一的是上海微电子。目前全球只有四家能够制造光刻机的公司,分别是荷兰阿斯麦尔、日本尼康和佳能、中国上海微电子。这里说的光刻机指的是euv/duv浸润式光刻机。所以说,国内仅有一家能够制造光刻机的公司,既上海微电子,所以上海微电子排名第一。上海微电子公司简介:上海微电子是半导体行业的上市公司,公司坐落于张江高科技园区。公司成立于2002年,主要致力于大规模工业生产的投影光刻机研发,生产销售与服务,IC制造与先进封装,MEMS ,TSV/3D,TFT -OLED等制造领域。公司致力于以极致服务,造高端产品,创卓越价值,全天候,全方位,全身心地为顾客提供优质产品和技术支持与服务。
光刻机哪个国家能造
摘要:光刻机被誉为“现代光学工业之花”,号称比研制原子弹还困难!全球只有3个国家能造。在全球高端光刻机市场,荷兰达到全球领先水平,除了荷兰,日本、中国也可以制造光刻机。但我国一直被西方国家牢牢“卡脖子”,至今都没能突破尖端技术。那么,研制光刻机的难度在哪里?一、光刻机哪个国家能造光刻机作为芯片产业制造中不可缺少的设备,也是工时和成本占比最高的设备,更是全球顶尖技术和人类智慧的结晶。那么目前有哪些国家可以制造出光刻机呢?目前在制造光刻机领域中,荷兰已经达到了领先全球的水平,荷兰的ASML公司占据了全球市场份额的80%。除了荷兰以外,日本和中国也可以制造出光刻机。日本代表的企业是佳能和尼康,中国的代表企业是上海微电子。虽然我国目前只能制造出90纳米的光刻机,但是我国已经加大了科研投入和人才培养,相信在不久的将来,就能制造出属于自己的光刻机。二、光刻机的难度在哪里1、光源问题光刻机以光为媒介,刻画微纳于方寸之间,实现各种微米甚至纳米级别的图形加工。目前,世界上最先进的光刻机已经能够加工13纳米线条。而我们人类的头发丝直径大约是50~70微米,也就是说,光刻可以刻画出只有头发丝直径1/5000的线条。前面提到的荷兰ASML公司的极紫外光刻机(EUV)是现在全球最顶尖的光刻机设备,相较于DUV,它把193nm的短波紫外线替换成了13.5nm的极紫外线,能够把光刻技术扩展到32nm以下的特征尺寸。EUV光刻机的光源来自于美国的Cymer,这个13.5nm的极紫外线其实是从193nm的短波紫外线多次反射之后得到的。简单来说,就是用功率为250的二氧化碳激光去不断轰击滴落下来的金属锡滴液,在进行连续轰击之后,就能激发出EUV等离子体,从而获得波长更短的光。在这个过程中,每秒大约要攻击5万个滴液,而一个金属锡滴液,其实只有20微米的大小。这是个什么概念?就是相当于从地球上发射出了一束手电光。足以可见其精密程度。光源的问题,就是光刻机制造的难点问题之一。2、反射镜光刻机的第二个难点,是用来调整光路和聚焦的反射镜。普通光刻机的物镜是透镜,高端光刻机的物镜是反射镜,反射镜还得利用Bragg反射的原理添加涂层。反射镜的作用是把模板上的电路图等比例缩小,在硅片上以电路图的形式呈现出来,这是制造芯片的关键元件。ASML公司EUV的光学元件都来自于以做光学器件出名德国的蔡司,当然其中也包括光刻机的反射镜。EUV多层膜反射镜作为光学系统的重要元件,成为了EUV光源的一项关键技术,需实现EUV波段的高反射率。近年来,科研人员们通过研究发现,采用Mo/Si多层膜制备出的反射镜对中心波长为13.5nm、光谱带宽,在2%以内EUV光的反射率可达70%。通过将Mo原子和si原子交替排列,可使13.5nm的EUV光在其中发生干涉,从而得到较高的反射效率。一句话来感受一下EUV反射镜精度到底有多高?假设差不多半米直径的镜面是德国国土面积那么大,那么其局部的凹凸不能超过1mm。光刻机上面反射镜的制造,也是光刻机技术的一个难点。3、工作台光刻机的工作台控制了芯片在制造生产中的纹路刻蚀,工作台的移动精度越高,所加工的芯片精度就越高。这对于国家的硬件能力和软件能力都是考验,即使是科技实力十分强大的美国也无法做到垄断光刻机移动工作台。ASML公司的EUV光刻机工作台采用的是一种高精度的激光干涉仪,以此进行微动台的位移测量,构建出一个闭环的控制系统,进而实现纳米级的超精密同步运动。光刻机分辨率的日益提高对光刻机工作台提出了更高的要求,在工作台运行过程中,需要花费更多的时间对准以保证光刻机的工作精度。也就是说,怎样在保证不浪费太多时间的同时确保工件的精度?这是个问题。在芯片制造过程中,并不是一次曝光就可以完成的,在制造过程中要经历多次曝光,这也就意味着,在芯片制作过程中要进行多次对准操作(每一次曝光都要更换不同的掩膜,掩膜与硅晶圆之间每次都要对准操作)。芯片的每个元件之间都只有几纳米的间隔,在这种情况下,掩膜与硅晶圆之间的对准误差都必须控制在几纳米范围内。一次对准可能相对来说比较容易,但芯片的制造需要多次曝光多次对准,在曝光完一个区域之后,放置硅晶圆的曝光台就必须快速进行移动,接着曝光下一个需要曝光的区域,想要在多次快速移动中实现纳米级别的对准,这个难度相当大。就相当于端着一碗汤做蛙跳,还得保证跳了几十次之后一滴汤都没洒出来。工作台技术不论是从精度还是时间效率上来说,均是光刻机技术上的一个难点。4、耗电问题光刻机要在工作过程中稳定地输出高功率的光线,以支持其在晶圆上的持续刻蚀。为了实现芯片的工业化量产,光刻机在耗电能力上也有极致的追求。最关键的还是,EUV光刻机还非常费电,它需要消耗电量把整个工作环境都抽成真空以避免灰尘,同时也可以通过更高的功率来弥补自身能源转换效率低下的问题,一般设备运行之后每小时就会损耗至少150度的电力。这种极度耗电的问题,也是光刻机制造中的一个难点。除此之外,次级电子对光刻胶的曝光、光化学反应释放气体,EUV对光罩的侵蚀等种种难题都要一一解决。这种情况就导致很长一段时间内EUV的产量极低,甚至日均产量只有1500片。当然,除了上面提到的几点之外,光刻机的研发还面临着很多难点,光刻机对工作环境的要求极高,它必须要在超洁净的环境下才能够运行,一点点小灰尘落在光罩上就会带来严重的良品率问题,并对材料技术、流程控制等都有更高的要求。最致命的一点,就是光刻机的研发成本极高。结语:光刻机制造在光源、物镜、工作台、研发投入、工作环境等领域都面临着不小的难点,也正因如此,光刻机技术久久都未取得明显突破,我国在芯片制造上依旧面临被卡脖子的困境。但目前我国在光刻机技术上已经取得了一些小小的突破,国产光刻机未来可期!期待中国光刻机打破垄断,走向世界的一刻。
光刻机有哪些国家能制造?
全世界只有中国、日本、荷兰可以制造光刻机,日本的代表企业是尼康、佳能,曾经的光刻机“王者”,后来被荷兰ASML反超后就一蹶不振了,而中国也可以制造光刻机,只是达不到顶尖光刻机的精细程度。目前,荷兰ASML一家公司几乎垄断了全球的高端光刻机市场,主要是EUV光刻机,造价极高,暂时没有一家竞争企业可以与之匹敌,每年稳定向大客户供货。光刻机的分类光刻机一般根据操作的简便性分为三种,手动、半自动、全自动。1、手动:指的是对准的调节方式,是通过手调旋钮改变它的X轴,Y轴和thita角度来完成对准,对准精度可想而知不高了。2、半自动:指的是对准可以通过电动轴根据CCD的进行定位调谐。3、自动:指的是从基板的上载下载,曝光时长和循环都是通过程序控制,自动光刻机主要是满足工厂对于处理量的需要。
全球最先进的光刻机在哪个国家?
中国、日本、荷兰。在能够制造机器的这几家公司中,尤其以荷兰(ASML)技术最为先进。价格也最为高昂。光刻机的技术门槛极高,堪称人类智慧集大成的产物。目前在全球45纳米以下高端光刻机市场当中,荷兰ASML市场占有率达到80%以上,而且目前ASML是全球唯一能够达到7纳米精度光刻机的提供商,所以ASML才是全球芯片业真正的超级霸主一点都不过分。主要性能指标光刻机的主要性能指标有:支持基片的尺寸范围,分辨率、对准精度、曝光方式、光源波长、光强均匀性、生产效率等。分辨率是对光刻工艺加工可以达到的最细线条精度的一种描述方式。光刻的分辨率受受光源衍射的限制,所以与光源、光刻系统、光刻胶和工艺等各方面的限制。对准精度是在多层曝光时层间图案的定位精度。曝光方式分为接触接近式、投影式和直写式。曝光光源波长分为紫外、深紫外和极紫外区域,光源有汞灯,准分子激光器等。
刻蚀机和光刻机的区别
蚀刻机和光刻机其实就是完全不同的两种设备,不论从功能还是结构上来说都是天差地别,光刻机是整个芯片制造过程中最为核心的设备,芯片的制程是由光刻机决定的,而不是蚀刻机。具体如下:1、工作原理如果把制造芯片比喻成盖房子,那么光刻机的作用就是把房子的结构标注在地上。刻蚀机就是在光刻完成以后才登场的设备,也是光刻完成以后最为重要的设备之一。刻蚀机最主要的作用就是按照光刻机已经标注好的线去做基础建设,把不需要的地方给清除掉,只留下光刻过程中标注好的线路。光刻机相当于画匠,刻蚀机是雕工。前者投影在硅片上一张精细的电路图(就像照相机让胶卷感光),后者按这张图去刻线(就像刻印章一样,腐蚀和去除不需要的部分)。2、结构光刻机的最主要的核心技术就是光源和光路,其光源和光路的主要组成部分有四个,光源、曝光、检测、和其他高精密机械组成。对比之下,蚀刻机的结构组成就要简单很多,主要是等离子体射频源、反应腔室和真空气路等组成。3、售价ASML的EUV光刻机单台售价很高,蚀刻机的售价要低很多了。4、工艺刻蚀机是将硅片上多余的部分腐蚀掉,光刻机是将图形刻到硅片上。5、难度光刻机的难度和精度大于刻蚀机。
光刻机哪个国家的最好
美国最好。光刻机荷兰、中国、日本、美国、韩国可以做。光刻机就是用光来雕刻的机器,是用来实现光线侵蚀光刻胶的目的。所以说,光刻机就是把很大的电路图,通过透镜缩小到芯片那么大,然后用光线侵蚀掉光刻胶,达到自动形成电路的目的。光刻机是非常复杂的机械,目前最厉害的光刻机生产商就是荷兰的ASML,他们现在已经能够生产刻出5nm线路的光刻机了。光刻机的分类光刻机一般根据操作的简便性分为三种,手动、半自动、全自动。手动:指的是对准的调节方式,是通过手调旋钮改变它的X轴,Y轴和thita角度来完成对准,对准精度不高。半自动:指的是对准可以通过电动轴根据CCD的进行定位调谐。
光刻机是干什么用的
光刻机是用来制造芯片的。光刻机又被称为掩膜对准曝光机,在芯片生产中用于光刻工艺,而光刻工艺又是生产流程中最关键的一步,所以光刻机又是芯片生产中不可缺少的设备。 光刻机是干什么用的 光刻机决定了芯片的精密尺寸,设计师设计好芯片线路,在通过光刻机将线路刻在芯片上,其尺度通常在微米级以上。 光刻机是芯片生产中最昂贵也是技术难度最大的设备,因为其决定了一块芯片的整体框架与功能。 其实生产高精度芯片并不难,只是生产速度太慢,而光刻机能快速生产高精度的芯片,所以很重要。
光刻机是什么
光刻机(Mask Aligner) 又名:掩模对准曝光机,曝光系统,光刻系统等。常用的光刻机是掩膜对准光刻,所以叫 Mask Alignment System.Photolithography(光刻) 意思是用光来制作一个图形(工艺);在硅片表面匀胶,然后将掩模版上的图形转移光刻胶上的过程将器件或电路结构临时“复制”到硅片上的过程。扩展资料:光刻相关介绍:一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、刻蚀、检测等工序。在传统光学光刻技术逼近工艺极限的情况下,电子束光刻技术将有可能出现在与目前193i为代表的光学曝光技术及EUV技术相匹配的混合光刻中,在实现10nm级光刻中起重要的作用。应该提到的是电子束曝光技术是推动微电子技术和微细加工技术进一步发展的关键技术,在微电子、微光学和微机械等微系统微细加工领域有着广泛的应用前景,而且除电子束直写光刻技术本身以外,几乎所有的新一代光刻技术所需要的掩模制作还是离不开电子束曝光技术。参考资料来源:百度百科-光刻参考资料来源:百度百科-光刻机
光刻机原理
光刻机原理是通过一系列的光源能量、形状控制手段,将光束透射过画着线路图的掩模,经物镜补偿各种光学误差,将线路图成比例缩小后映射到晶圆上,最后形成芯片。就好像原本一个空空如也的大脑,通过光刻技术把指令放进去,那这个大脑才可以运作,而电路图和其他电子元件就是芯片设计人员设计的指令。光刻机就是把芯片制作所需要的线路与功能区做出来。简单来说芯片设计人员设计的线路与功能区“印进”晶圆之中,类似照相机照相。照相机拍摄的照片是印在底片上,而光刻刻的不是照片,而是电路图和其他电子元件。
光刻机是什么东西
光刻机(MaskAligner)又名掩模对准曝光机,曝光系统,光刻系统等。常用的光刻机是掩膜对准光刻,所以叫MaskAlignmentSystem.
光刻机是什么东西
光刻机是用光来制作一个图形的机器。光刻机是芯片生产过程中重要的灵魂部分。具体就是把想要的芯片,再通过设计师设计出规格之后用光学技术刻在晶圆上。 通过光刻胶印制的电路可以使阳文形式的电路,也可以是阴文形式的电路。高端光刻机堪称现代光学工业之花,其制造难度之大,全世界只有少数几家公司能够制造。
一台光刻机体积有多大
一百多立方米。根据百度百科显示,一台光刻机体积非常大,大约为一百多立方米,与一辆公交汽车大小差不多。光刻机,又称为掩模对准曝光机,是制造芯片的核心装备。它采用类似照片冲印的技术,把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上。
光刻机是干什么用的
光刻机是芯片制造的核心设备之一,按照用途可以分为好几种:有用于生产芯片的光刻机;有用于封装的光刻机;还有用于LED制造领域的投影光刻机,同时用于生产芯片的光刻机是中国在半导体设备制造上最大的短板。 光刻机(MaskAligner)又名:掩模对准曝光机,曝光系统,光刻系统等。常用的光刻机是掩膜对准光刻,所以叫MaskAlignmentSystem.一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、刻蚀等工序。Photolithography(光刻)意思是用光来制作一个图形(工艺);在硅片表面匀胶,然后将掩模版上的图形转移光刻胶上的过程将器件或电路结构临时“复制”到硅片上的过程。
光刻机是干什么用的
光刻机是芯片制造流程中,光刻工艺的核心设备。光刻机(Mask Aligner),又名掩模对准曝光机、曝光系统、光刻系统等,是制造微机电、光电、二极体大规模集成电路的关键设备。光刻机的主要性能指标有:支持基片的尺寸范围,分辨率、对准精度、曝光方式、光源波长、光强均匀性、生产效率等。其分为两种,一种是模板与图样大小一致的contact aligner,曝光时模板紧贴晶圆;另一种是利用短波长激光和类似投影机原理的步进式光刻机(stepper)或扫描式光刻机(scanner),获得比模板更小的曝光图样。光刻机分类光刻机一般根据操作的简便性分为三种,手动、半自动、全自动。手动,指的是对准的调节方式,是通过手调旋钮改变它的X轴,Y轴和thita角度来完成对准,对准精度可想而知不高了;半自动,指的是对准可以通过电动轴根据CCD的进行定位调谐;自动,指的是从基板的上载下载,曝光时长和循环都是通过程序控制,自动光刻机主要是满足工厂对于处理量的需要。接触式曝光(Contact Printing):掩膜板直接与光刻胶层接触,曝光出来的图形与掩膜板上的图形分辨率相当,设备简单,接触式,根据施加力量的方式不同又分为:软接触,硬接触和真空接触。
光刻机是谁发明的
法国人Nicephore niepce。尽管光刻机发明的时间较早,但并没有在各行业领域之中被使用,直到第2次世界大战时,该技术应用于印刷电路板,所使用的材料和早期发明时使用的材料也已经有了极大区别,在塑料板上通过铜线路制作,让电路板得以普及,短期之内就成为了众多电子设备领域中关键材料之一。 光刻机:光刻机(Mask Aligner) 又名:掩模对准曝光机,曝光系统,光刻系统等,是制造芯片的核心装备。它采用类似照片冲印的技术,把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上。 光刻机一般根据操作的简便性分为三种,手动、半自动、全自动。 A手动:指的是对准的调节方式,是通过手调旋钮改变它的X轴,Y轴和thita角度来完成对准,对准精度可想而知不高了; B半自动:指的是对准可以通过电动轴根据CCD的进行定位调谐; C自动:指的是从基板的上载下载,曝光时长和循环都是通过程序控制,自动光刻机主要是满足工厂对于处理量的需要。
什么是光刻机
光刻机是采用类似照片冲印的技术,把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上的设备。光刻机(lithography)又名:掩模对准曝光机,曝光系统,光刻系统等,是制造芯片的核心装备。光刻机一般根据操作的简便性分为三种,手动、半自动、全自动:1、手动:指的是对准的调节方式,是通过手调旋钮改变它的X轴,Y轴和thita角度来完成对准,对准精度可想而知不高了。2、半自动:指的是对准可以通过电动轴根据CCD的进行定位调谐。3、自动:指的是从基板的上载下载,曝光时长和循环都是通过程序控制,自动光刻机主要是满足工厂对于处理量的需要。光刻机的品牌根据采用不同技术路线可以归纳成如下几类:高端的投影式光刻机可分为步进投影和扫描投影光刻机两种,分辨率通常七纳米至几微米之间,高端光刻机号称世界上最精密的仪器,高端光刻机堪称现代光学工业之花,其制造难度之大,全世界只有少数几家公司能够制造。国外品牌主要以荷兰ASML(镜头来自德国),日本Nikon(intel曾经购买过Nikon的高端光刻机)和日本Canon三大品牌为主。位于我国上海的SMEE已研制出具有自主知识产权的投影式中端光刻机,形成产品系列初步实现海内外销售。正在进行其他各系列产品的研发制作工作。生产线和研发用的低端光刻机为接近、接触式光刻机,分辨率通常在数微米以上。主要有德国SUSS、美国MYCRO NXQ4006、以及中国品牌。
光刻机是什么意思
1、光刻机(Mask Aligner) 又名:掩模对准曝光机,曝光系统,光刻系统等,是制造芯片的核心装备。它采用类似照片冲印的技术,把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上。 2、生产集成电路的简要步骤:利用模版去除晶圆表面的保护膜。将晶圆浸泡在腐化剂中,失去保护膜的部分被腐蚀掉后形成电路。用纯水洗净残留在晶圆表面的杂质。
什么是光刻机(光刻机是干什么用的?)
光刻机是制造微机电、光电、二极体大规模集成电路的关键设备。其分为两种,一种是模板与图样大小一致的contactaligner,曝光时模板紧贴晶圆;另一种是利用类似投影机原理的stepper,获得比模板更小的曝光图样。高端光刻机被称为“现代光学工业之花”,制造难度很大,全世界只有少数几家公司能制造。生产集成电路的简要步骤:利用模版去除晶圆表面的保护膜。将晶圆浸泡在腐化剂中,失去保护膜的部分被腐蚀掉后形成电路。用纯水洗净残留在晶圆表面的杂质。其中曝光机就是利用紫外线通过模版去除晶圆表面的保护膜的设备。一片晶圆可以制作数十个集成电路,根据模版曝光机分为两种:模版和晶圆大小一样,模版不动。模版和集成电路大小一样,模版随曝光机聚焦部分移动。其中模版随曝光机移动的方式,模版相对曝光机中心位置不变,始终利用聚焦镜头中心部分能得到更高的精度。成为的主流。光刻机又名:掩模对准曝光机,曝光系统,光刻系统等,是制造芯片的核心装备。它采用类似照片冲印的技术,把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上。光刻机一般根据操作的简便性分为三种,手动、半自动、全自动A手动:指的是对准的调节方式,是通过手调旋钮改变它的X轴,Y轴和thita角度来完成对准,对准精度可想而知不高了。B半自动:指的是对准可以通过电动轴根据CCD的进行定位调谐。C自动:指的是从基板的上载下载,曝光时长和循环都是通过程序控制,自动光刻机主要是满足工厂对于处理量的需要。
光刻机是干什么用的
光刻机的作用是:将光刻胶层覆盖在硅片表面,然后通过控制光源的强度和位置来将芯片上特定的图形或线路图案投射到光刻胶层上。光刻机是一种常见于半导体工业和微电子制造中的重要设备。它主要用于生产微型芯片和光学元件,通过使用光刻技术将图案模式转移到硅片或其他材料上。光刻机的基本原理是利用光源和光学系统将光束聚焦到特定的图案上,并通过光掩膜或掩模板上的图案形成光斑。然后,光斑会通过投影或接触方式传输并照射到待加工的材料表面。照射后,材料上的感光剂或光敏剂会发生化学或物理反应,形成所需的图案。光刻机在微电子制造中起到关键的作用,它能够制造出微尺度的芯片和器件。它在集成电路、传感器、显示器件、光学器件等领域具有广泛应用。光刻技术能够实现高精度、高分辨率的图案转移,为微电子行业提供了核心的制造工艺。光刻机特色:1、高精度和高分辨率:光刻机能够实现微米甚至亚微米级别的图案转移,具有极高的精度和分辨率。这使得它在制造高密度集成电路和微型器件时非常重要。2、高效性和生产性:光刻机能够在短时间内完成多个芯片或器件的图案转移,并且能够实现持续的高速生产。这提高了制造过程的效率,满足了大规模生产的需求。3、多层图案转移:光刻机可以实现多层图案的转移,使得复杂的电路结构和器件设计成为可能。它能够精确地将不同层次的图案对准和叠加,达到所需的功能和性能。4、光刻技术的发展:随着光学技术和光刻技术的不断发展,光刻机的能力和性能不断提升。例如,采用先进的光刻技术,如深紫外光刻,可以实现更高的分辨率和更复杂的图案转移。
光刻机的作用和用途
光刻机可用于制造电子零件、IC芯片和微型元件等。光刻机可以将设计的电路图模式转换成可用的电路板。它将模式转换为一种可以在电路板上刻出的模式,这种模式包括线路、孔、排列等。它也可以用于印制电路板芯片,如芯片组件和电路板组件等。光刻机(lithography)又名:掩模对准曝光机,曝光系统,光刻系统等,是制造芯片的核心装备。它采用类似照片冲印的技术,把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上。光刻机的种类可分为:接触式曝光、接近式曝光、投影式曝光。光刻机可用于制造电子零件、IC芯片和微型元件等。光刻机工作原理光刻机的工作原理是通过一系列的光源能量、形状控制手段,将光束透射过画着线路图的掩模,经物镜补偿各种光学误差,将线路图成比例缩小后映射到硅片上。然后使用化学方法显影,得到刻在硅片上的电路图。一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、激光刻蚀等工序。光刻机的制造和维护需要高度的光学和电子工业基础,因此,世界上只有少数厂家掌握。光刻机,其实就是一种将图纸上的芯片电路设计通过类似照片冲印的技术印制到硅片上的机器。简单来说,就是在硅片上覆盖一层具有高度光敏感性的光刻胶,再用紫外光透过掩模照射硅片,被光线照射到的光刻胶会发生化学反应。以上内容参考百度百科-光刻机
光刻机是如何制造出来的?
光刻机成功的原因有以下几点:技术进步、应用广泛、产业链完善、成本降低。1、技术进步:随着科技的不断进步,光刻机的技术也得到了不断的改进和完善。现代光刻机采用了更先进的光学元件和精密控制系统,使得其制造精度和速度都得到了极大的提升。2、应用广泛:光刻机的应用范围非常广泛,可以用于制造半导体芯片、平板显示器、LED等电子元件,以及MEMS、微纳米加工等领域。这些领域的发展也促进了光刻机技术的进步。3、产业链完善:光刻机是半导体产业链中的重要环节,其制造和应用需要涉及到光刻胶、光学元件、控制系统等多个领域。随着产业链的不断完善,光刻机的市场需求也得到了不断增加。4、成本降低:随着光刻机技术的不断进步和市场竞争的加剧,光刻机的制造成本也得到了不断降低。这使得更多的企业能够承担光刻机的成本,从而进一步促进了其市场需求。光刻机的作用光刻机主要用于半导体芯片的生产,利用光学投影技术把电路图案投影到硅片上进行照射,从而在硅片上形成显影图样。光刻机的主要作用是在制造半导体芯片时进行微缩制程,从而实现高集成度和高性能的芯片。光刻机的运算速度快,可靠性高,是电子产业中最重要的工具之一。同时,随着半导体产业的快速发展,光刻机不断发展出更精密和高效的版本,以满足制造更复杂芯片的需求。在现代科技和信息时代,光刻机的作用越来越广泛,经济和社会中起着重要的推动作用。
光刻机的作用和用途
光刻机的作用是制造芯片,用途是芯片生产中用于光刻工艺。光刻机决定了芯片的精密尺寸,设计师设计好芯片线路,再通过光刻机将线路刻在芯片上,其尺度通常在微米级以上。光刻机是芯片生产中最昂贵也是技术难度最大的设备,因为其决定了一块芯片的整体框架与功能。其实生产高精度芯片并不难,只是生产速度太慢,而光刻机能快速生产高精度的芯片,所以很重要。利用光刻机发出的光通过具有图形的光罩对涂有光刻胶的薄片曝光,光刻胶见光后会发生性质变化,从而使光罩上得图形复印到薄片上,从而使薄片具有电子线路图的作用。对准系统制造高精度的对准系统需要具有近乎完美的精密机械工艺,这也是国产光刻机望尘莫及的技术难点之一,许多美国德国品牌光刻机具有特殊专利的机械工艺设计。例如MycroN&Q光刻机采用的全气动轴承设计专利技术,有效避免轴承机械摩擦所带来的工艺误差。对准系统另外一个技术难题就是对准显微镜。为了增强显微镜的视场,许多高端的光刻机,采用了LED照明。对准系统共有两套,具备调焦功能。主要就是由双目双视场对准显微镜主体、目镜和物镜各1对(光刻机通常会提供不同放大倍率的目镜和物镜供用户组合使用)。
什么叫光刻机
光刻机是一种用于微电子和半导体工艺中的关键设备。它主要用于将电子器件的图形图案转移到半导体材料或薄膜上,以制造集成电路(IC)和其他微纳米器件。光刻机的工作原理是将光源通过光学系统聚焦成一束细小的光束,然后通过掩膜上的图案进行投影。掩膜上的图案代表了所需制造的电子器件的结构和电路布局。当光束通过掩膜时,它会被光学系统聚焦到非常小的尺寸,然后照射到覆盖在半导体材料或薄膜上的光敏感物质(光刻胶)上。光刻胶在光的作用下发生化学或物理变化,形成图案的显影图像。接下来,通过化学腐蚀或蚀刻等工艺步骤,将光刻胶图案转移到半导体材料上,并最终形成微电子器件的结构。光刻机具有高精度、高分辨率和高产能的特点,能够实现微米级别的图案制作。在微电子制造中,光刻机是非常重要的设备,它对电子器件的性能和可靠性有着直接影响。光刻机的作用1、图案转移:光刻机使用光刻胶作为光敏材料,通过光源照射光刻胶,经过曝光、显影等步骤,将光刻胶上的图案转移到硅片或其他半导体材料表面。这些图案是电路设计中的一部分,用于制作集成电路中的金属线、晶体管和电容等微细结构。2、制造微细结构:光刻机能够制造微细结构,例如亚微米级别的线条和孔洞。这些微细结构在集成电路中起到连接、隔离、传感和控制等功能,对于电子器件的性能和功能至关重要。3、高精度和重复性:光刻机具有高精度和重复性的特点,能够在微米级甚至亚微米级的尺度上制造精细的图案。通过光学系统和控制技术的精确控制,能够实现高度一致的图案转移,保证了电子器件的稳定性和可靠性。
光刻机的作用和用途
1. 简介光刻机是一种非常重要的半导体制造工具,它用于将电路设计图纸上的芯片图案转移到硅片上。光刻机的原理是通过将光线聚焦在一个光阻层上,以形成要制造的芯片图案。2. 光刻机的作用光刻机的主要作用是制造集成电路和芯片。在芯片制造的过程中,光刻机可以将设计图案转移到硅片上,从而形成微小的电路元件。这种过程中需要反复涂覆光阻并将其加热,以保证芯片的质量。3. 光刻机的用途光刻机在半导体制造和集成电路设计中扮演了重要的角色。一方面,它可以用于制造各种不同的芯片,另一方面,它还可以进行微细化加工,以保证芯片的良好性能。此外,光刻机还可以用于其他领域,例如LCD显示屏、MEMS器件、LED照明等。4. 光刻机的分类根据使用的光源波长不同,光刻机可以分为紫外光刻机、深紫外光刻机、接触式光刻机等。紫外光刻机是应用最广泛的一种光刻机,它使用的是365nm的短波紫外线。深紫外光刻机则使用的是193nm的深紫外线,可以进行更加微小化的加工。5. 光刻机的优缺点光刻机的优点在于可以进行高精度的微细加工,从而制造出性能更好的芯片产品。此外,光刻机还可以实现快速生产,提高生产效率。但是,光刻机的缺点在于设备价格比较昂贵,技术维护难度较大,需要高度专业化的技能。6. 光刻机的发展趋势随着集成电路领域的快速发展,光刻机的技术也在不断提高,采用的光源波长也在不断缩短,从而实现更加微小化的结构加工。此外,光刻机可以与其他技术相结合,例如纳米印刷技术、MEMS技术等,实现更加精细的微结构制造。7. 光刻机的应用前景随着人工智能、云计算、物联网等新兴应用的发展,对于高性能芯片产品的需求也在不断扩大。因此,光刻机在半导体制造、集成电路设计和其他领域中的应用前景仍然非常广阔。虽然目前市场上竞争激烈,但是光刻机的技术和性能仍然在不断提高。
光刻机的种类有哪些
摘要:光刻机顾名思义就是“用光来雕刻的机器”,是芯片产业中宝贵且技术难度最大的机器。光刻机的种类有哪些?光刻机又名:掩模对准曝光机,曝光系统,光刻系统等,有接触式曝光、接近式曝光、投影式曝光等光刻机。光刻机怎么制造芯片?下面来了解下。一、光刻机的种类有哪些1、接触式曝光(ContactPrinting)掩膜板直接与光刻胶层接触。曝光出来的图形与掩膜板上的图形分辨率相当,设备简单。接触式,根据施加力量的方式不同又分为:软接触,硬接触和真空接触。(1)软接触:就是把基片通过托盘吸附住(类似于匀胶机的基片放置方式),掩膜盖在基片上面。(2)硬接触:是将基片通过一个气压(氮气),往上顶,使之与掩膜接触。(3)真空接触:是在掩膜和基片中间抽气,使之更加好的贴合(想一想把被子抽真空放置的方式)。缺点:光刻胶污染掩膜板;掩膜板的磨损,容易损坏,寿命很低(只能使用5~25次);容易累积缺陷;上个世纪七十年代的工业水准,已经逐渐被接近式曝光方式所淘汰了,国产光刻机均为接触式曝光,国产光刻机的开发机构无法提供工艺要求更高的非接触式曝光的产品化。2、接近式曝光(ProximityPrinting)掩膜板与光刻胶基底层保留一个微小的缝隙(Gap),Gap大约为0~200μm。可以有效避免与光刻胶直接接触而引起的掩膜板损伤,使掩膜和光刻胶基底能耐久使用;掩模寿命长(可提高10倍以上),图形缺陷少。接近式在现代光刻工艺中应用最为广泛。3、投影式曝光(ProjectionPrinting)在掩膜板与光刻胶之间使用光学系统聚集光实现曝光。一般掩膜板的尺寸会以需要转移图形的4倍制作。优点:提高了分辨率;掩膜板的制作更加容易;掩膜板上的缺陷影响减小。投影式曝光分类:(1)扫描投影曝光(ScanningProjectPrinting)。70年代末~80年代初,〉1μm工艺;掩膜板1:1,全尺寸;(2)步进重复投影曝光(Stepping-repeatingProjectPrinting或称作Stepper)。80年代末~90年代,0.35μm(Iline)~0.25μm(DUV)。掩膜板缩小比例(4:1),曝光区域(ExposureField)22×22mm(一次曝光所能覆盖的区域)。增加了棱镜系统的制作难度。(3)扫描步进投影曝光(Scanning-SteppingProjectPrinting)。90年代末~至今,用于≤0.18μm工艺。采用6英寸的掩膜板按照4:1的比例曝光,曝光区域(ExposureField)26×33mm。优点:增大了每次曝光的视场;提供硅片表面不平整的补偿;提高整个硅片的尺寸均匀性。但是,同时因为需要反向运动,增加了机械系统的精度要求。4、高精度双面主要用于中小规模集成电路、半导体元器件、光电子器件、声表面波器件、薄膜电路、电力电子器件的研制和生产。高精度特制的翻版机构、双视场CCD显微显示系统、多点光源曝光头、真空管路系统、气路系统、直联式无油真空泵、防震工作台等组成。适用于φ100mm以下,厚度5mm以下的各种基片的对准曝光。5、高精度单面针对各大专院校、企业及科研单位,对光刻机使用特性研发的一种高精度光刻机,中小规模集成电路、半导体元器件、光电子器件、声表面波器件的研制和生产。高精度对准工作台、双目分离视场CCD显微显示系统、曝光头、气动系统、真空管路系统、直联式无油真空泵、防震工作台和附件箱等组成。解决非圆形基片、碎片和底面不平的基片造成的版片分离不开所引起的版片无法对准的问题。二、光刻机怎么制造芯片1、沉积制造芯片的第一步,通常是将材料薄膜沉积到晶圆上。材料可以是导体、绝缘体或半导体。2、光刻胶涂覆进行光刻前,首先要在晶圆上涂覆光敏材料“光刻胶”或“光阻”,然后将晶圆放入光刻机。3、曝光在掩模版上制作需要印刷的图案蓝图。晶圆放入光刻机后,光束会通过掩模版投射到晶圆上。光刻机内的光学元件将图案缩小并聚焦到光刻胶涂层上。在光束的照射下,光刻胶发生化学反应,光罩上的图案由此印刻到光刻胶涂层。4、计算光刻光刻期间产生的物理、化学效应可能造成图案形变,因此需要事先对掩模版上的图案进行调整,确保最终光刻图案的准确。5、烘烤与显影晶圆离开光刻机后,要进行烘烤及显影,使光刻的图案永久固定。洗去多余光刻胶,部分涂层留出空白部分。6、刻蚀显影完成后,使用气体等材料去除多余的空白部分,形成3D电路图案。7、计量和检验芯片生产过程中,始终对晶圆进行计量和检验,确保没有误差。检测结果反馈至光刻系统,进一步优化、调整设备。这一部,就需要用到纳米级超精密运动平台这一关键设备了。8、离子注入在去除剩余的光刻胶之前,可以用正离子或负离子轰击晶圆,对部分图案的半导体特性进行调整。9、视需要重复制程步_从薄膜沉积到去除光刻胶,整个流程为晶圆片覆盖上一层图案。而要在晶圆片上形成集成电路,完成芯片制作,这一流程需要不断重复,可多达100次。10、封装芯片最后一步,运用超精密运动平台,进行晶圆切割,获得单个芯片,封装在保护壳中。这样,成品芯片就可以用来生产电视、平板电脑或者其他数字设备了!
光刻机是什么东西
1. 光刻机是什么东西光刻机是一种用于制造微型电子设备的机器。它利用光刻技术,将芯片设计图案转移到硅片表面上,制造微型集成电路、光电器件和MEMS等微型器件。2. 光刻机的工作原理光刻机的工作原理是利用紫外线光学系统将芯片设计图案投射到硅片表面上,然后将硅片暴露在光线下,使其被照射。然后再进行化学处理,通过光刻工艺形成微型电子设备的芯片。3. 光刻机的应用领域光刻机广泛用于半导体技术领域,包括制造微处理器、内存芯片、显示器、传感器和射频器件等。此外,光刻机还可用于制造光学器件、光纤和生物芯片等微型设备。4. 光刻机的发展及未来趋势光刻机技术自20世纪60年代起开始形成,并不断发展和完善。随着半导体技术的快速发展,光刻机技术也迎来了快速发展的时期。未来,随着微型电子设备制造技术的不断革新和发展,光刻机技术也将继续向着更高精度、更高速度、更高可靠性和更节能环保的方向发展。5. 光刻机的优点和局限性光刻机具有制造精度高、生产效率高、工艺稳定等优点,可以大大提高微型电子设备的制造效率和质量。但是,光刻机也存在一些局限性,如制造成本高、设备运行复杂、对环境温度和湿度要求高等问题。6. 光刻机的市场前景随着半导体和微电子产业的快速发展,光刻机市场呈现出快速增长的趋势。据市场研究机构统计,2019年全球光刻机市场规模已经达到98.9亿美元,预计未来几年将继续保持快速增长的势头,市场前景良好。7. 光刻机的发展机会和挑战随着微型电子设备技术不断发展,光刻机也将会面临新的机会和挑战。未来光刻机需不断提高技术水平、降低生产成本、提高生产效率和质量,以更好地满足市场需求。同时,随着环保和节能意识的普及,光刻机也需要做好环保工作,不断推进节能减排。
光刻机是干什么用的
说到光刻机,很多人肯定都很陌生,也可能是第一次听见这个东西,那么光刻机是干什么用的呢?一起来了解一下吧。光刻机是芯片制造的核心设备之一。在加工芯片的过程中,光刻机通过一系列的光源能量、形状控制手段,将光束透射过画着线路图的掩模,经物镜补偿各种光学误差,将线路图成比例缩小后映射到硅片上,然后使用化学方法显影,得到刻在硅片上的电路图。光刻机的结构组成:1、测量台、曝光台:是承载硅片的工作台。2、激光器:就是光源,光刻机核心设备之一。3、光束矫正器:矫正光束入射方向,让激光束尽量平行。4、能量控制器:控制最终照射到硅片上的能量,曝光不足或过足都会严重影响成像质量。5、光束形状设置:设置光束为圆型、环型等不同形状,不同的光束状态有不同的光学特性。6、遮光器:在不需要曝光的时候,阻止光束照射到硅片。7、能量探测器:检测光束最终入射能量是否符合曝光要求,并反馈给能量控制器进行调整。8、掩模版:一块在内部刻着线路设计图的玻璃板,贵的要数十万美元。9、掩膜台:承载掩模版运动的设备,运动控制精度是nm级的。10、物镜:物镜用来补偿光学误差,并将线路图等比例缩小。11、硅片:用硅晶制成的圆片。硅片有多种尺寸,尺寸越大,产率越高。12、内部封闭框架、减振器:将工作台与外部环境隔离,保持水平,减少外界振动干扰,并维持稳定的温度、压力。以上就是小编今天的分享了,希望可以帮助到大家。
阿斯麦公司制造新一代光刻机,这一代光刻机与之前的相比如何?
分辨率会提升70%,接近1nm极限,维护会更加的健康,平均的维修时间会缩短到8~10个小时,产能提升到了175WPH。
光刻机生产厂家是?
掩模对准器的制造商是ASML。自1984年以来,ASML的光刻解决方案一直是半导体行业的创新领导者,并在如此小的规模内实现了巨大的飞跃。结合硬件和软件,它提供了在硅上大规模生产图案的整体方法。在全球16个国家和地区,有60家ASML公司的主要产品是光刻机,这是生产大规模集成电路的核心设备。在国际同类产品中占有90%的市场份额,14nm工艺以下市场份额100%。扩展信息:ASML为半导体制造商提供掩模对准器和相关服务。TWINSCAN系列是世界上最精确、最多产、应用最广泛的高端光刻模型。世界上大多数半导体制造商从ASML购买TWINSCAN型号,如英特尔、三星、海力士、TSMC、SMIC等。
哪些国家能制造光刻机,都有哪些企业?
荷兰和日本。最大的光刻机制造商是荷兰ASML,这是一家总部设在荷兰埃因霍芬(Eindhoven)的全球最大的半导体设备制造商之一,向全球复杂集成电路生产企业提供领先的综合性关键设备。ASML的股票分别在阿姆斯特丹及纽约上市。产品服务ASML为半导体生产商提供光刻机及相关服务,TWINSCAN系列是目前世界上精度最高,生产效率最高,应用最为广泛的高端光刻机型。目前全球绝大多数半导体生产厂商,都向ASML采购TWINSCAN机型,比如英特尔(Intel)、三星(Samsung)、海力士(Hynix)、台积电(TSMC)、中芯国际(SMIC)等。ASML的产品线分为PAS系列、AT系列、XT系列和NXT系列,其中PAS系列现已停产;AT系列属于老型号,多数已经停产。市场上的主力机种是XT系列以及NXT系列,为ArF和KrF激光光源,XT系列是成熟的机型,分为干式和沉浸式两种,而NXT系列则是现在主推的高端机型,全部为沉浸式。