photoresist

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In situ ultrasonic measurement of photoresist glass transition temperature

我们已经开发了一种测试光致抗蚀剂原位玻璃转化温度的方法。光致抗蚀剂预焙的目的为蒸发光致抗蚀剂中的过量溶剂并允许聚合物链松弛为规则矩阵。在光致抗蚀剂预焙期间,当高频超声信号相位从硅/光致抗蚀剂界面反射时,监控高频超声信号相位。一旦到达指定温度,在相位中存在最初的降低,随后相位快速增加。相信这个可重复的温度是抗蚀剂/溶剂混合物的玻璃转化温度且跟随它的相位的快速增加是溶剂蒸发的结果。测试新制spun 2.2 mm Shipley 1813抗蚀剂玻璃转化温度(Tg)为50℃。随着涂层和预赔之间的时间延迟从0分增加到20分,测试的Tg从50℃增加到66℃。相信在Tg中的此改变是溶剂蒸发的结果。